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研究設備紹介

主要設備一覧

X線回折装置・XRD

(薄膜用、粉末用)

薄膜材料結晶性解析装置
(PANalytical X'Pert PRO MRD)

【特徴】

パナリティカル社の薄膜材料結晶性解析X線回折装置は、試料に平行X線を照射し、回折・反射してくるX線を測定することにより化合物半導体から多結晶金属薄膜まであらゆる薄膜材料を統合的に解析する装置です。特にエレクトロニクス分野で使用される結晶性に優れたエピタキシャル薄膜の分析に威力を発揮し、格子定数、基板との配向関係、膜厚、歪みなどの情報を非破壊で得ることが可能です。また、この装置は、試料の結晶性レベルや測定方法に合わせて、使用者が入射モジュールや受光モジュールを簡単に交換することができるのも特徴です。

薄膜材料結晶性解析・XRD

【仕様】

X線管球 セラミックス絶縁X線回折管球高出力ファインフォーカス(Cu LFF, 最大出力1800W)
入射光学系 ハイブリッドミラー二回回折モノクロメータ
受光光学系その1 トリプルアクシス+ロッキングカーブ
受光光学系その2 平行平板コリメーター(0.27 deg)
検出器 比例計数管(Xe封入)

【設置場所】

マテリアルサイエンス系3棟1階


全自動水平型多目的X線回折装置 (リガクSmartLab)

リガク社の全自動水平型多目的X線回折装置SmartLabは、各種材料に最適な測定条件を教えてくれるガイダンス機能を実現した粉末X線回折装置です。膜厚測定、配向測定、粒径空孔径分布測定など、従来難しかった薄膜材料の測定を、専門的な知識がなくても容易に行うことができます。

全自動水平型多目的X線回折装置 (リガクSmartLab)

【特徴】

高輝度X線源および試料水平配置高精度ゴニオメータを使用した粉末X線回折装置であり、サンプルの状態によって、光学系は集中法あるいは平行法、検出系 はシンチレーションカウンター、半導体1次元検出器、高速2次元検出器から選択可能です。これらを組み合わせることによって、粉末解析、薄膜解析、小角X線散乱など様々なX線分析が本装置1台で容易に実現できます。

【仕様】

X線源 9 kWX線発生装置 / Cuターゲット
光学系 集中法・多層膜平行ビーム法・薄膜高分解平行ビーム法・インプレーン光学系
検出器 シンチレーションカウンター/ 半導体1次元検出器/ 高速2次元検出器 PILATUS

【設置場所】

マテリアルサイエンス系3棟1階

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