11/17 研究科セミナー (日立製作所: 内山 博幸 氏)

 

マテリアルサイエンス研究科4棟8階 中セミナー室 15:30-17:00

「アモルファス酸化物TFTを用いた薄膜HF帯RFIDの開発」

株式会社日立製作所 中央研究所 主任研究員 内山 博幸 氏

講演要旨
 アモルファス酸化物TFTは、OLEDディスプレイ駆動用など、次世代高精細ディスプレイを担う技術として注目されている。特長は、高移動度と高オン/オフ比、低電圧駆動、低温・薄膜プロセスなどであり、ディスプレイの他、これらを活かした新しい応用が期待できる。特に、低温・薄膜プロセスが不可欠な薄膜フレキシブルデバイスは、現状のSiテクノロジーでは困難な領域であり、アモルファス酸化物TFTによる実現が期待される。我々は、薄膜プロセスのみで形成が可能なアモルファス酸化物TFT技術をベースとしたフレキシブルRFIDの実現とその応用を検討しており、今回ガラス基板上薄膜RFID回路の試作と無線評価を行ったので紹介する。

講演者略歴
1989年3月 千葉大学大学院理学研究科化学専攻修士課程修了
1989年4月 (株)日立製作所 中央研究所 入所
 ~2006年3月 化合物半導体デバイス、プロセス技術の研究に従事
2006年3月 法政大学工学部工学研究科より博士(工学)の称号授与
2007年4月~現在 酸化物半導体デバイス技術の研究に従事
2011年9月~現在 法政大学理工学部兼任講師
2012年8月~現在 酸化物半導体材料技術の研究に従事
(日立金属(株)冶金研究所出向中)

担当教員 グリーンデバイス研究センター 教授 徳光 永輔(内線:1510)

セミナー第11回.pdf

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