大平 圭介 (OHDAIRA, Keisuke)教授
マテリアルサイエンス, サスティナブルイノベーション研究領域
◆学位
博士(工学) 東京大学
◆職歴
2018 - : 北陸先端科学技術大学院大学 , 先端科学技術研究科マテリアルサイエンス系 , 教授
2016 - 2018 : 北陸先端科学技術大学院大学 , 先端科学技術研究科マテリアルサイエンス系 , 准教授
2012 - 2016 : 北陸先端科学技術大学院大学 , グリーンデバイス研究センター , 准教授
2009 - 2013 : 独立行政法人科学技術振興機構 , さきがけ研究 , 兼任研究者
2006 - 2011 : 北陸先端科学技術大学院大学 , マテリアルサイエンス研究科 , 助教
2005 - 2006 : 北陸先端科学技術大学院大学 , 材料科学研究科 , 助教
2004 - 2005 : 東北大学 , 金属材料研究所 , 博士研究員
2000 - 2004 : 東京大学 , 大学院工学系研究科 物理工学専攻 , 博士課程
1998 - 2000 : 東京大学 , 大学院工学系研究科 物理工学専攻 , 修士課程
◆専門分野
材料加工、組織制御, 結晶工学, 応用物性
◆研究キーワード
触媒化学気相堆積, 太陽電池, 結晶化, 簿膜, 多結晶シリコン, フラッシュランプアニール, スパッタリング, 熱処理, 高温加圧加工, 半導体結晶, X線用レンズ
◆研究課題
フラッシュランプ熱処理による高品質多結晶シリコン薄膜の形成とその太陽電池応用 
触媒化学気相堆積(Cat-CVD)法でガラス基板上に形成したa-Siに対し、ミリ秒の熱処理であるフラッシュランプアニールを施すことにより、太陽電池用高品質多結晶シリコン薄膜を形成し、それを用いた太陽電池の作製の検討を行っています。
触媒化学気相堆積の結晶Si太陽電池作製プロセスへの応用
触媒化学気相堆積(Cat-CVD)法は、加熱触媒体線上で原料ガス分子を接触分解反応により分解し、製膜を行う薄膜堆積法です。プラズマ損傷の無い製膜が可能であり、良好な薄膜/結晶Si界面の形成が期待できます。当研究室では、Cat-CVD法を用いた結晶Si表面のパッシベーション技術の開発に取り組んでいます。また、Cat-CVD装置を用いた新規ドーピング技術の開発にも挑戦しています。
n型結晶Si太陽電池モジュールの電圧誘起劣化
大規模太陽光発電所において、モジュールのフレーム-セル間の高電位差に起因して特性が劣化する電圧誘起劣化(potential-induced degradation: PID)が問題となっています。当研究室では、特に、高効率で今後普及が予想されるn型結晶Si太陽電池モジュールについて、PIDのメカニズム解明と抑止技術の開発を行っています。

■研究業績

◆発表論文
Delay of the potential-induced degradation of n-type crystalline silicon photovoltaic modules by the prior application of reverse bias
Deqin Wu, Huynh Thi Cam Tu, Keisuke OHDAIRA
Japanese Journal of Applied Physics, 63, 2, 02SP06-02SP06, 2024
Long term stability of low temperature deposited Cat-CVD SiN x thin film against damp-heat stress
Huynh Thi Cam Tu, Keisuke OHDAIRA
Japanese Journal of Applied Physics, 63, 1, 01SP25-01SP25, 2024
Ultrathin Al-doped SiO x passivating hole-selective contacts formed by a simple wet process
Hiroki Nakajima, Huynh Thi Cam Tu, Keisuke Ohdaira
Japanese Journal of Applied Physics, 62, SK, SK1040-SK1040, 2023
Potential-induced degradation of encapsulant-less p-type crystalline Si photovoltaic modules
Shuntaro Shimpo, Huynh Thi Cam Tu, Keisuke Ohdaira
Japanese Journal of Applied Physics, 62, SK, SK1039-SK1039, 2023
Second-stage potential-induced degradation of n-type front-emitter crystalline silicon photovoltaic modules and its recovery
Keisuke Ohdaira, Yutaka Komatsu, Seira Yamaguchi, Atsushi Masuda
Japanese Journal of Applied Physics, 62, SK, SK1033-SK1033, 2023
◆Misc
Silicon heterojunction solar cells with a counter-doped n-a-Si film treated by flash lamp annealing
Y. Liu, H. T. C. Tu, N. Yamaguchi, K. Ohdaira
Extended Abstract of the 2021 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2021), -, 2021
Effect of temperature and pre-annealing on the potential-induced degradation of silicon heterojunction photovoltaic modules
J. Xu, H. T. C. Tu, A. Masuda, K. Ohdaira
Extended Abstract of the 2021 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2021), -, 2021
Hydrogenation on tunnel nitride passivated contacts by catalytically generated atomic hydrogen
Y. Wen, H. T. C. Tu, and K. Ohdaira
Extended Abstract of the 2021 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2021),, -, 2021
Influence of UV light on the increase of SiNx conductivity toward elucidation of potential induced degradation mechanism
Dong Chung Nguyen, Yasuaki Ishikawa, Cong Thanh Nguyen, Keisuke Ohdaira, Atsushi Masuda, Yukiharu Uraoka
Proceedings of 2019 IEEE 46th Photovoltaic Specialists Conference (PVSC), 317-320, 2020
Influence of light illumination on the potential-induced degradation of n-type interdigitated back-contact crystalline Si photovoltaic modules
Y. Xu, A. Masuda, K. Ohdaira
Extended Abstract of the 2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2020), -, 2020
◆書籍
The Work Behind the Scenes for the First Ever Online Event of SSDM2020
単著, AAPPS Bulletin 32, Article number: 4, 2022
ホッとひといき SSDM2020初のオンライン開催の舞台裏
応用物理 第90巻, 第4号, 2021
ホッとひといき 支部学術講演会を知ろう
応用物理 第89巻, 第6号, 2020
今月のトピックス 展示ブースにお邪魔しました
その他, 応用物理 第88巻, 第9号, 2019
研究機関トップからのメッセージ 夢に向かって、目の前の山を登り切る
その他, 応用物理 第88巻, 第8号, 2019
◆講演・口頭発表
ベイズ最適化を適用したCat-CVD i-a-Siおよびn-a-Siの堆積条件探索
第14回半導体・デバイスフォーラム(SMDF2023)(九州工業大学), 2023
3種類の回帰モデルを駆使したベイズ最適化によるCat-CVD i-a-Siの堆積条件検討
第52回結晶成長国内会議(JCCG-52)(ウィンクあいち), 2023
太陽電池モジュールの劣化機構と新概念構造の開発
応用物理学会 応用電子物性分科会 研究例会「太陽電池モジュールの基礎と将来展開」(オンライン), 2023
Effectiveness of Al-induced charged oxide inversion layer on pyramidal textured Si surfaces
The 34th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-34)(Shenzhen World Exhibition & Convention Center), 2023
Effect of cover glass morphology on the potential-induced degradation of n-type front-emitter crystalline silicon photovoltaic modules
The 34th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-34)(Shenzhen World Exhibition & Convention Center), 2023

■担当講義

Mathematics for Condensed Matter Science and Technology, Advanced Device Physics(E), Solid State Physics and its Application to Electronics II(E), 応用物性数学特論, 先端デバイス特論(E), 固体電子物性・デバイス特論Ⅱ(E)

■学外活動

◆所属学会
International Conference on Hot-Wire Chemical Vapor Deposition (Cat-CVD) Process, 薄膜材料デバイス研究会, Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AM-FPD), International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM), Cat-CVD研究会, IEEE, 応用物理学会

■賞等

・ PVSEC-27 Best Paper Award , PVSEC-27 Technical Program Committee , 2017
・ 第22回(2007年春季)応用物理学会講演奨励賞 , 応用物理学会 , 2007