北陸先端科学技術大学院大学 [JAIST] - 研究者総覧
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大平 圭介 (オオダイラ ケイスケ) 准教授
マテリアルサイエンス系、環境・エネルギー領域

■学位

東京大学工学士(1998), 東京大学修士(工学)(2000),東京大学博士(工学)(2004)

■職歴

東北大学金属材料研究所COEフェロー(2004-2005),東北大学金属材料研究所産学官連携研究員(2005), 北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科助教(2005-2011), 独立行政法人 科学技術振興機構 さきがけ研究 兼任研究者 (2009-2013),

■専門分野

太陽電池、半導体工学

■研究テーマのキーワード

太陽電池 多結晶シリコン薄膜 触媒化学気相堆積

■研究課題

フラッシュランプ熱処理による高品質多結晶シリコン薄膜の形成とその太陽電池応用 
触媒化学気相堆積(Cat-CVD)法でガラス基板上に形成したa-Siに対し、ミリ秒の熱処理であるフラッシュランプアニールを施すことにより、太陽電池用高品質多結晶シリコン薄膜を形成し、それを用いた太陽電池の作製の検討を行っている。

触媒化学気相堆積 (Cat-CVD) の太陽電池応用
加熱した触媒体線で原料ガスを分解して薄膜を堆積するCat-CVD法により、結晶シリコン表面でのキャリア再結合を有効に低減できるパッシベーション膜を形成できる。この高品質パッシベーション膜の開発と、結晶シリコン太陽電池への応用について検討を行う。
液体シリコンプロセスの太陽電池応用
真空プロセスを使用せずに非晶質シリコンなどを形成できる液体シリコンプロセスは、太陽電池の製造コストを大幅に低減できるポテンシャルを有している。薄膜シリコン太陽電池などへの応用を目標に、研究を進めている。
高性能ガスバリア膜の開発
太陽電池モジュールに使用されるバックシートの水蒸気バリア性能は、モジュールの寿命を決める重要な要素である。当研究室では、主にCat-CVD技術を応用した、高性能ガスバリア膜の開発に取り組んでいる。

■研究業績

◇著書

  • "太陽光と光電変換機能―異分野融合から生まれる次世代太陽電池―" 第1章 3. 瞬間結晶化によるガラス基板上への多結晶Si薄膜形成,大平 圭介,CMC出版,2016
  • Subsecond Annealing of Advanced Materials, Chapter 10, Formation of High-Quality オm-Order-Thick Poly-Si Films on Glass-Substrates by Flash Lamp Annealing,Keisuke Ohdaira,Springer,2014,pp. 173-188
  • Crystal Growth of Si for Solar Cells, Chapter 11, "Thin Film Poly-Si Formed by Flash Lamp Annealing",Keisuke Ohdaira,Springer,2009,pp. 177-191

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◇発表論文

  • Catalytic phosphorus and boron doping to amorphous silicon films,K. Ohdaira, J. Seto, and H. Matsumura,Jpn. J. Appl. Phys. (in press)
  • Suppression of the epitaxial growth of Si films in Si heterojunction solar cells by the formation of ultra-thin oxide layers,K. Ohdaira, T. Oikawa, K. Higashimine, and H. Matsumura,Current Appl. Phys.,16,1026-1029,2016
  • Si heterojunction solar cells with a-Si passivation films formed from liquid Si,Keisuke Ohdaira, Cheng Guo, Hideyuki Takagishi, Takashi Masuda, Zhongrong Shen, Tatsuya Shimoda,Proc. 43rd IEEE Photovoltaic Specialists Conference,2016

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◇講演発表

  • n型結晶Si太陽電池モジュールの電圧誘起劣化,大平 圭介、山口 世力、西川 斉志、小松 豊、山本 千津子、原 浩二郎、増田 淳,平成28年度第2回太陽電池モジュール劣化メカニズム研究会,AP名古屋,2017年3月21日
  • Research on Si photovoltaics in JAIST,K. Ohdaira,Japan-Taiwan joint workshop on materials science,JAIST,2017年1月19-20日
  • Application of Cat-CVD technology to crystalline silicon solar cells,K. Ohdaira, Trinh Thi Cham, T. Oikawa, J. Seto, K. Koyama, and H. Matsumura,SCEJ 82nd Annual Meeting,Shibaura Institute of Technology,March 6-8, 2017

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■学外活動

◇所属学会

  • Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AM-FPD),セッションリーダー,2016-
  • 9th International Conference on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition,International Advisory Committee member and guest editor for the special issue of Thin Solid Fiilms,2016-
  • 薄膜材料デバイス研究会,組織委員、プログラム委員長,2016-

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◇その他の国際・国内貢献等

  • 石川県立工業のSPH事業,同校で行っているSPH事業に関し、ゼミナール活動、プロジェクト活動のサポートを継続的に行っている。また、出張講義を行った。,2015/10/01 - 2016/09/30
  • 資源総合システム,43rd IEEE Photovoltaic Specialists Conference の会議報告を依頼され、同会議内の講演に関する報告書作成を行った。,2016/06/05 - 2016/06/10
  • PVJapan 2016,ブース展示を行い、研究成果の公表、大学に関する情報発信を行った。,2016/06/29 - 2016/07/01

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■賞等

  • 第22回(2007年春季)応用物理学会講演奨励賞,応用物理学会,2007