高村 由起子 (TAKAMURA, Yukiko)教授
マテリアルサイエンス, ナノマテリアル・デバイス研究領域, ナノマテリアルテクノロジーセンター
◆学位
博士(工学) 東京大学
修士(工学) 東京大学
学士(工学) 東京大学
◆職歴
2020 - : 北陸先端科学技術大学院大学 , 先端科学技術研究科 , 教授
2016 - 2020 : 北陸先端科学技術大学院大学 , 先端科学技術研究科 , 准教授
2016 - 2017 : 金沢大学 , 大学院自然科学研究科 , 非常勤講師
2011 - 2020 : 北陸先端科学技術大学院大学 , マテリアルサイエンス研究科 , 准教授
2009 - 2017 : 東北大学 , 原子分子材料科学高等研究機構 , 連携准教授
2006 - 2011 : 北陸先端科学技術大学院大学 , マテリアルサイエンス研究科 , 講師
2002 - 2006 : 東北大学 , 金属材料研究所 , 助手
2001 - 2002 : 東京大学 , 大学院工学系研究科 , 日本学術振興会リサーチ・アソシエイト
1999 - 2000 : マックスプランクプラズマ物理研究所 , 材料研究部門 , 客員研究員
1998 - 2001 : 日本学術振興会 , 特別研究員(PD)
1995 - 1998 : 日本学術振興会 , 特別研究員(DC1)
2022 - : 北陸先端科学技術大学院大学 , ナノマテリアルテクノロジーセンター , 教授(兼務)
2020 - 2021 : 北陸先端科学技術大学院大学 , マテリアルサイエンス研究科 , 教授
2015 - 2016 : 北陸先端科学技術大学院大学 , シミュレーション科学研究センター , 兼務教員
2009 - : 東京大学 , 大学院工学系研究科総合研究機構 , 客員研究員
2007 - 2011 : 北陸先端科学技術大学院大学 , 先端融合領域研究院 , 兼務教員
◆専門分野
薄膜、表面界面物性, ナノ構造物理, 材料加工、組織制御, ナノ材料科学
◆研究キーワード
ナノ材料, 二次元材料, シリセン, 二ホウ化ジルコニウム, ダイヤモンド, 窒化ガリウム, シリコン, 薄膜, 分子線エピタキシー, 超高真空, 走査プローブ顕微鏡
◆研究課題
ホウ化物薄膜のエピタキシャル成長

■研究業績

◆発表論文
Atomically thin metallic Si and Ge allotropes with high Fermi velocities
Chin-En Hsu, Yung-Ting Lee, Chieh-Chun Wang, Chang-Yu Lin, Yukiko Yamada-Takamura, Taisuke Ozaki, Chi-Cheng Lee
PHYSICAL REVIEW B, 107, 11, -, 2023
Tailoring the magnetic properties of Co20Fe60B20/SmCo5 bilayers: Effects of argon ion implantation
Kali Prasanna Mondal, Sambhunath Bera, Ajay Gupta, Raj Kumar, Gangadhar Das, Gouranga Manna, Nobuaki Ito, Yukiko Yamada-Takamura
MATERIALS LETTERS, 316, -, 2022
Growth behavior, physical structure, and magnetic properties of iron deposited on Tris(8-hydroxy quinoline)-aluminum
Kali Prasanna Mondal, Sambhunath Bera, Ajay Gupta, Dileep Kumar, V. Raghavendra Reddy, Gangadhar Das, Arnab Singh, Yukiko Yamada- Tamakura
Applied Surface Science, 562, 150169-150169, 2021
Adatom-induced dislocation annihilation in epitaxial silicene
A. Fleurence, Y. Yamada-Takamura
2D MATERIALS, 8, 4, -, 2021
Hidden competing phase revealed by first-principles calculations of phonon instability in the nearly optimally doped cuprate La1.875Sr0.125CuO4
Chi-Cheng Lee, Ji-Yao Chiu, Yukiko Yamada-Takamura, Taisuke Ozaki
Physical Review B, 104, 6, 064114-, 2021
◆Misc
ZrB2(0001)薄膜表面上の二次元Ge二重三角格子
深谷有喜, 𠮷信淳, アントワーヌ・フロランス, 高村(山田)由起子
PHOTON FACTORY NEWS, 39, 3, 24-27, 2021
多層GaSeの電気伝導における電子線照射効果のその場TEM観察
福本航大, LIU C., 新田寛和, FLEURENCE Antoine, 高村(山田)由起子, 大島義文
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 68th, -, 2021
Ge(111)基板上にMBE成長したGaSe薄膜の平面STM・STEM観察
CHEN Tongmin, 米澤隆宏, 村上達也, 東嶺孝一, FLEURENCE Antoine, 大島義文, 高村(山田)由起子
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 67th, -, 2020
非柱状単位層構造を有する層状III族モノカルコゲナイド薄膜のMBE成長
米澤隆宏, 村上達也, 東嶺孝一, CHEN Tongmin, 新田寛和, 久瀬雷矢, FLEURENCE Antoine, 大島義文, 高村(山田)由起子
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 67th, -, 2020
2次元材料の電子状態解析ーシリセン研究における実験と計算の協奏
高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助
応用物理, 86, 6, 488-492, 2017
◆書籍
ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線
分担執筆, 株式会社エヌ・ティー・エス, 2020
ADVANCES IN MATERIALS RESEARCH 10, Frontiers in Materials Research
分担執筆, Springer, 2008
◆講演・口頭発表
Dislocation Annihilation in Epitaxial Silicene
19th International Conference on Diffusion in Solids and Liquids (DSL-2023), 2023
Novel two-dimensional materials stabilized on substrates
9th International Workshop on 2D Materials, A3 Foresight Program, 2022
基板上二次元材料の原子レベル構造制御
(公社)日本表面真空学会 東日本合同セミナー 表面・薄膜分析シリーズ Vol.7 先端的試料作製技術〜原子層物質〜, 2021
Electronic structure and optical properties of GaSe with trigonal-antiprismatic structure studied by first-principles calculations
Materials Research Meeting 2021, 2021
ケイ素版グラフェン「シリセン」の物理と化学
ケイ素化学協会 2021年度第6回Web講演会, 2021

■学外活動

◆所属学会
アメリカ物理学会, 応用物理学会, 日本金属学会
◆学術貢献活動
常任幹事 , 応用物理学会薄膜・表面物理分科会
幹事 , 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会
常任幹事 , 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会
◆審議会等への参画状況
・ 新エネルギー・産業技術総合開発機構 , 平成22年度 ナノテク・先端部材実用化研究開発事前書面審査委員 , 2010- 2010
・ 新エネルギー・産業技術総合開発機構 , 平成21年度下期 ナノテク・先端部材実用化研究開発事前書面審査委員 , 2009- 2009
・ 能美市教育委員会 , 『能美市子ども未来創造フェスティバル』実行委員 , 2020-

■賞等

・ 第46回原田研究奨励賞 , 本多記念会 , 2006
・ Poster Award , IFCAM Workshop on Surface and Interface Science , 2007
・ Best Poster Award , 3rd Materials Science School for Young Scientists , 2006