高村　由起子 （タカムラ　ユキコ）　准教授
マテリアルサイエンス研究科（マテリアルサイエンス専攻・物性解析・デバイス領域）

◇発表論文

• シリセン：ケイ素で出来たグラフェン？，高村（山田）由起子、アントワーヌ・フロランス、ライナー・フリードライン、尾崎泰助，日本物理学会誌 第68巻 5号 305-308 (2013).
• Experimental evidence for epitaxial silicene on diboride thin films，A. Fleurence, R. Friedlein, T. Ozaki, H. Kawai, Y. Wang, and Y. Yamada-Takamura，Physical Review Letters 108, 245501 (2012). (Selected for the June 25, 2012 issue of Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology)(Open Access, http://link.aps.org/doi/10.1103/PhysRevLett.108.245501)
• Scanning tunneling microscopy investigations of the epitaxial growth of ZrB₂ on Si(111)，A. Fleurence and Y. Yamada-Takamura，Physica Status Solidi (c) 8, 779-783 (2011). (Featured on the front cover of March issue)

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◇講演発表

• Silicene: A new two-dimensional material made of silicon，Yukiko Yamada-Takamura，SPIE Optics + Photonics 2013，San Diego, U.S.A.，2013.08.25
• Spontaneous formation of silicene on diboride thin films grown on Si wafers，Y. Yamada-Takamura，17th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-17)，Warsaw, Poland，2013.08.11-16
• エピタキシャルシリセン研究とナノプローブ技術，高村（山田）由起子，日本学術振興会第167委員会（ナノプローブテクノロジー）研究会「グラフェン・シリセンがもたらすナノ材料のブレークスルー 〜基礎・応用・展望〜」，産業技術総合研究所臨海副都心センター，2013.04.18

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◇所属学会

• 応用物理学会，和文機関誌「応用物理」編集委員，2011-2012
• アメリカ物理学会，2003-
• 応用物理学会，1995-

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◇審議会等への参画状況

• 日本学術振興会，科学研究費委員会専門委員，2008/01/01 - 2009/11/30
• 新エネルギー・産業技術総合開発機構，平成22年度「ナノテク・先端部材実用化研究開発」書面審査委員，2010/07/28 - 2010/08/31
• 新エネルギー・産業技術総合開発機構，平成21年度下期「ナノテク・先端部材実用化研究開発」書面審査委員，2009/09/08 - 2009/09/24

◇その他の国際・国内貢献等

• 子どもマイスター賞実行委員会（能美市教育委員会），『子どもマイスター賞』審査委員、2008-2012