北陸先端科学技術大学院大学 [JAIST] - 研究者総覧
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研究者紹介

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徳光 永輔 (トクミツ エイスケ) 教授
マテリアルサイエンス系、応用物理学領域

■学位

東京工業大学学士(工学)(1982),東京工業大学修士(工学)(1984),東京工業大学博士(工学)(1987)

■職歴

東京工業大学助手(1987),AT&Tベル研究所研究員(1988),東京工業大学助手(1990),東京工業大学精密工学研究所助教授(1992),東北大学電気通信研究所助教授(2002),東京工業大学精密工学研究所助教授(2004),東京工業大学精密工学研究所准教授(2007)

■専門分野

固体電子工学、電子デバイス、半導体デバイス、電子材料、デバイスプロセス技術、パワーデバイス

■研究業績

◇著書

  • Applications of Oxide Channel Ferroelectric-Gate Thin Film Transistors,Eisuke Tokumitsu and Tatsuya Shimoda, ,“Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories”, Springer, 2016.
  • Oxide-Channel Ferroelectric-Gate Thin Film Transistors with Nonvolatile Memory Function,Eisuke Tokumitsu,“Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories”,Springer, 2016.

◇発表論文

  • Fabrication of 120-nm-channel-length ferroelectric-gate thin-film transistor by nanoimprint lithography,Koji Nagahara, Bui Nguyen Quoc Trinh, Eisuke Tokumitsu, Satoshi Inoue, and Tatsuya Shimoda,Japanese Journal of Applied Physics,53,2014,02BC14,2014/1/29
  • Impact of UV/O3 treatment on solution-processed amorphous InGaZnO4 thin-film transistors,Kenichi Umeda, Takaaki Miyasako, Ayumu Sugiyama, Atsushi Tanaka, Masayuki Suzuki, Eisuke Tokumitsu and Tatsuya Shimoda,J. Appl. Phys.,113,184509,2013/05/13
  • Interface Charge Trap Density of Solution Processed Ferroelectric Gate Thin Film Transistor Using ITO/PZT/Pt Structure,Pham Van Thanh , Bui Nguyen Quoc Trinh , Takaaki Miyasako , Phan Trong Tue , Eisuke Tokumitsu and Tatsuya Shimoda,Ferroelectrics Letters Section, 40:1-3,17-29,2013/08/13

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◇講演発表

  • Oxide-Channel Ferroelectric-Gate Thin Film Transistors Prepared by Solution Process,Eisuke Tokumitsu and Tatsuya Shimoda,22nd International Display Workshop (IDW 2015), Dec.9-11, Otsu, Japan, Paper AMD6-1.
  • Amorphous LaRuO Nano-patterningusing Rheology Printing Method,Koji Nagahara, Li Jinwang, Daisuke Hirose, Eisuke Tokumitsu ,and Tatsuya Shimoda,13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014) ,October 22-24, 2014, ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto, Japan.,Kyoto, Japan,October 22-24, 2014
  • A Direct Imprinting for Fine Metal Oxide Patterns and Devices,Tatsuya Shimoda, Toshihiko Kaneda, Daisuke Hirose, Takaaki Miyasako, Phan Trong Tue, Yoshitaka Murakami, Shinji Kohara, Jinwang Li, Tadaoki Mitani, Eisuke Tokumitsu, & Shogo Nobukawa,13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014) (Invited) ,October 22-24, 2014,Kyoto, Japan,October 22-24, 2014

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■担当講義

ナノ情報通信材料論,デバイス物理特論

■学外活動

◇所属学会

  • 電子情報通信学会,正員,1990-
  • Materials Research Society,menber,1988-
  • Institute of Electrical and Electronic Engineers,member,1988-

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◇国際会議主催状況

  • 2014 Fall Meeting of Materials Research Society, Sympoisum M "Materials and Technlogies for Non-volatile Memories",Nov.30- Dec.5, 2014,Hynes Convention Center, Boston, USA
  • The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies,June 16-19, 2015,TOKI MESSE Niiigata Convention Center, Niigata, Japan
  • Japan-Korea Joint Symposium, "Recent progress and future prospects of functional 2-dimensional materials",March 19, 2016,Tokyo Institute of Technology. O-okayama, Tokyo

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