北陸先端科学技術大学院大学 [JAIST] - 研究者総覧
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下田 達也 (シモダ タツヤ) 教授
シングルナノイノベーティブデバイス研究拠点(マテリアルサイエンス専攻・物性解析・デバイス領域)

113件中21-40件目

  • 21. Deterioration properties of a-Si films formed using liquid Si under air exposure,
    過 程, K. Ohdaira, H. Takagishi, T. Masuda, T. Shimoda,
    2015年第76回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2015/9/13-16
  • 22. シリコン前駆体溶液とナノインプリント法を用いたアモルファスSiピラーの作製,
    山崎 健, 増田 貴史, 下田 達也,
    2015年度応用物理学会 北陸・信越支部 若手研究者サマーセミナー合宿研究会と研究討論会,長野 斑尾高原ホテル,2015/8/31-9/1
  • 23. van der Waals 相互作用エネルギーが乾燥模様に及ぼす影響 供
    大森 豊治, 増田 貴史, 下田 達也, ,
    第62回応用物理学会春季学術講演会,東海大学,2015/3/11-14
  • 24. Amorphous silicon carbide film prepared from a polymeric precursor solution,
    Takashi Masuda, Hideyuki Takagishi, Akira Iwasaka, and Tatsuya Shimoda,
    The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015),Niigata, Japan,June 16-19, 2015
  • 25. Solution-processed amorphous silicon carbide films made from solutions with various carbon contents,
    Akira Iwasaka, Takashi Masuda, and Tatsuya Shimoda,
    The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015),Niigata, Japan,June 16-19, 2015
  • 26. Fine Pattern of Highly Conductive Amorphous LaRuO by nano-Rheology Printing Method,Koji Nagahara, Jinwang Li, and Tatsuya Shimoda,The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015) P2-34,, June 16-19, 2015, TOKI MESSE Niigata Convention Center, Niigata, Japan,,Niigata, Japan,June 16-19, 2015
  • 27. Development of High-Dielectric Constant Insulating Films by Solution Process,Kazuki Shimono, Jinwang Li, Peixin Zhu, and Tatsuya Shimoda,The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015) P1-80, June 16-19, 2015, TOKI MESSE Niigata Convention Center, Niigata, Japan.,Niigata, Japan,June 16-19, 2015
  • 28. シクロペンタシランを用いた液体シリコン材料の物性と応用,下田達也,第76回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋国際会議場),2015.9/13-16,名古屋国際会議場,2015.9/13-16
  • 29. 紙基板上溶液プロセスによるポリシリコン,石原良一、Miki Trifunovic、Jin Zhang、下田達也,第76回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋国際会場), 13p-4F-8,2015.9/13-16.,名古屋国際会場,2015.9/13-16
  • 30. 液体Siを用いて製膜したa-Si膜のパッシベーション性能,過 程、大平 圭介、高岸 秀行、下田 達也,第12回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム,郡山市 ホテル華の湯,2015年5月28-29日
  • 31. 液体シクロペンタシランを用いた大気圧CVD 法によるa-Si:H 薄膜の作製,高岸秀行、申仲栄、増田貴史、大平圭介、下田達也,第61回応用物理学会春季学術講演会,青山学院大,2014年3月17-20日
  • 32. 溶液プロセスa-Si:H膜の基礎物性の焼成時間依存性,佐久間陽、大平圭介、増田貴史、申仲栄、高岸秀行、下田達也,第61回応用物理学会春季学術講演会,青山学院大,2014年3月17-20日
  • 33. シリコンインクを用いたアモルファスSiC膜の作製,増田貴史、申仲栄、高岸秀行、大平圭介、下田達也,第61回応用物理学会春季学術講演会,青山学院大,2014年3月17-20日
  • 34. Formation of Silicon Films from Liquid Source,T. Shimoda, T. Masuda,2014 MRS Spring Meeting, San Francisco, California, April 21-25, 2014.,San Francisco, California,USA,April 21-25, 2014
  • 35. Fabrication of Oxide Thin-Film Transistors using the Newly Developed Rheology Printing Method,P. T. Tue, T. Kaneda, D. Hirose, T. Miyasako, Y. Murakami, S. Kohara, J. Li, T. Mitani, E. Tokumitsu, and T. Shimoda,2014 MRS Spring Meeting, San Francisco, April 21-25, 2014.,San Francisco, California ,USA,April 21-25, 2014
  • 36. Rheological properties of the ITO gel and its application for forming nano-patterns by imprinting,D. Hirose, T. Kaneda, T. Miyasako, P. T. Tue, Y. Murakami, S. Kohara, J. Li, T. Mitani, E. Tokumitsu, S. Nobukawa, and T. Shimoda,2014 MRS Spring Meeting, San Francisco, April 21-25, 2014,San Francisco, California,USA,April 21-25, 2014
  • 37. Dependence of Bi–Nb–O Film Properties on the Bi:Nb Ratio of the Precursor Solution,Tomoki Ariga, Satoshi Inoue, Shin Matsumoto, Kosuke Ajisaka, and Tatsuya Shimoda,2014 MRS Spring Meeting, San Francisco, April 21-25, 2014,San Francisco, California ,USA,April 21-25, 2014
  • 38. Development of Amorphous Oxide Thin Film Transistors Fabricated by a Total Solution Process for Display Application,Phan Trong Tue, Hiroaki Koyama, Jinwang Li, Satoshi Inoue, Tatsuya Shimoda,SID Display week 2014 (SID2014) , San Diego CA, USA, June 3-6, 2014.,San Diego CA, USA,June 3-6, 2014.
  • 39. Fabrication of a Self-Aligned ZrInZnO TFT using Polypropylene Carbonate Solution,Huynh Thi Cam Tu, Satoshi Inoue, Kiyoshi Nishioka, Nobutaka Fujimoto, Shuichi Karashima and Tatsuya Shimoda,SID Display week 2014_(SID2014) San Diego CA, USA, June 3-6, 2014.,San Diego CA, USA,June 3-6, 2014
  • 40. Oxide TFT Fabrication by Nano-Rheology Printing for Display Application,Hiroaki Koyama, Kazuhiro Fukada, Yoshitaka Murakami, Phan Trong Tue, Shogo Tanaka, Satoshi Inoue, and Tatsuya Shimoda,SID Display week 2014 (SID2014) San Diego CA, USA, June 3-6, 2014.,San Diego CA, USA,June 3-6, 2014

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