北陸先端科学技術大学院大学 [JAIST] - 研究者総覧
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大平 圭介 (オオダイラ ケイスケ) 教授
マテリアルサイエンス系、環境・エネルギー領域

560件中1-20件目

  • 1. フラッシュランプアニールによる太陽電池用多結晶シリコン膜形成,大平 圭介,第4回有機・無機エレクトロニクスシンポジウム,宇奈月国際ホテル,2018年6月23日
  • 2. Low Cost Fabrication of Back Contact Crystalline-Silicon Heterojunction Solar Cells with n-a-Si Layers Partially Converted from p-a-Si by Phosphine (PH3) Plasma Ion-Implantation,Huynh Thi Cam Tu, Koichi Koyama, Noboru Yamaguchi, Hideo Suzuki, Keisuke Ohdaira, and Hideki Matsumura,World Conference on Photovoltaic Energy Conversion,Waikoloa, Hawaii,2018年6月10-15日
  • 3. n型c-Si太陽電池モジュールの長時間電圧誘起劣化後の回復挙動,小松 豊、山口 世力、増田 淳、大平 圭介,第65回応用物理学会春季学術講演会,早稲田大学,2018年3月17-20日
  • 4. テクスチャガラス基板が電子線蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化機構に与える影響,倉田 啓佑、大平 圭介,第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2018年9月18-21日
  • 5. PID試験中の太陽電池モジュール内部の電流及び電界解析,橘 泰至、豊田 丈紫、上田 芳弘、山口 世力、大平 圭介、山本 千津子、増田 淳,第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2018年9月18-21日
  • 6. Cat-CVD SiNx膜のパッシベーション性能の膜厚依存性,文 ?力、大平 圭介,第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2018年9月18-21日
  • 7. プラズマイオン注入による良好なパッシベーション品質を持つカウンタドープn-a-Si層の形成,Huynh Thi Cam Tu、山口 昇、鈴木 英夫、大平 圭介、松村 英樹,第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2018年9月18-21日
  • 8. Controlling solution surface tension for the cleaning of small size textured Si surface to obtain extremely low surface recombination velocity of 0.6 cm/s,Cong Thanh Nguyen, K. Ohdaira, and H. Matsumura,第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2018年9月18-21日
  • 9. 共蒸着を用いたテクスチャSiへのペロブスカイト製膜,浜田 啓太郎、當摩 哲也、山本 晃平、宮寺 哲彦、早瀬 修二、大八木 伸、山本 裕三、大平 圭介,第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2018年9月18-21日
  • 10. n型フロントエミッター型結晶シリコン太陽電池モジュールの電圧誘起劣化に与える光照射の影響,山口 世力、増田 淳、大平 圭介,第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2018年9月18-21日
  • 11. Potential-induced degradation in n-type crystalline silicon photovoltaic cell modules,S. Yamaguchi, A. Masuda, and K. Ohdaira,28th Annual NREL Silicon Workshop,Winter Park, Colorado,2018年8月12-15日
  • 12. Vacuum deposition of CsPbI3 layers on textured Si for perovskite/Si tandem solar cells,Keitaro Hamada, Kyosuke Yonezawa, Kohei Yamamoto, Tetsuya Taima, Shuzi Hayase, Noboru Ooyagi, Yuzo Yamamoto, and Keisuke Ohdaira,2018 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2018),東京大学,2018年9月9-13日
  • 13. Crystallization of electron-beam evaporated a-Si films on textured glass substrates by flash lamp annealing,Keisuke Kurata and Keisuke Ohdaira,2018 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2018),東京大学,2018年9月9-13日
  • 14. A simplest Cat-CVD apparatus without direct substrate heating system,H. Matsumura, K. Koyama, K. Ogawa, S. Terashima, T. Konishi, T. Baba, Y. Takeuchi, and K. Ohdaira,10th International Confenrence on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition (HWCVD10),北九州国際会議場,2018年9月3-6日
  • 15. Conversion of conduction type of Cat-CVD p-type a-Si by ion implantation,Huynh Thi Cam Tu, K. Koyama, N. Yamaguchi, H. Suzuki, K. Ohdaira, and H. Matsumura,10th International Confenrence on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition (HWCVD10),北九州国際会議場,2018年9月3-6日
  • 16. Annealing behavior of Cat-CVD p-type a-Si for c-Si surface passivation and its superiority over PECVD counterparts,Huynh Thi Cam Tu, K. Ohdaira, and H. Matsumura,10th International Confenrence on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition (HWCVD10),北九州国際会議場,2018年9月3-6日
  • 17. Excellent passivation quality of MPAT crystalline silicon textures for solar cells by using proper chemical cleaning and Cat-CVD SiNx/a-Si stacked layers,Cong Thanh Nguyen, K. Ohdaira, and H. Matsumura,10th International Confenrence on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition (HWCVD10),北九州国際会議場,2018年9月3-6日
  • 18. Improvement in the passivation quality of Cat-CVD SiNx films on crystalline Si at room temperature,J. Miyaura, and K. Ohdaira,10th International Confenrence on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition (HWCVD10),北九州国際会議場,2018年9月3-6日
  • 19. Passivation of crystalline silicon surfaces with a few μm-sized pyramids by Cat-CVD silicon nitride films,J. Liu, Y. Wen, N. Ooyagi, Y. Yamamoto, and K. Ohdaira,10th International Confenrence on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition (HWCVD10),北九州国際会議場,2018年9月3-6日
  • 20. Influence of ITO sputtering on the performance of silicon heterojunction solar cells with Cat-CVD amorphous silicon films,T. Konishi, and K. Ohdaira,10th International Confenrence on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition (HWCVD10),北九州国際会議場,2018年9月3-6日

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