北陸先端科学技術大学院大学 [JAIST] - 研究者総覧
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下田 達也 (シモダ タツヤ) 教授
シングルナノイノベーティブデバイス研究拠点(マテリアルサイエンス専攻・物性解析・デバイス領域)

113件中1-20件目

  • 1. Direct imprinting of liquid silicon,
    Takashi Mauda and Tatsuya Shimoda,
    TechConnect World 2017, Washington, DC ,Gaylord Convention Center,May 14-17, 2017
  • 2. 液体シリコンのダイレクトインプリンティング,
    増田貴史、下田達也,
    次世代リソグラフィワークショップNGL2017,東京工業大学,2017-7/18-19
  • 3. SiCインクから作成したP型アモルファスSiC薄膜の光電子分光法による評価,
    村上達也, 増田貴史, 下田達也,
    第78回応用物理学会秋季学術講演回,福岡国際会議場,2017年9月5日
  • 4. Direct Imprinting of Liquid Silicon for Si Fine Patterns,
    Ken Yamazaki, Takashi Masuda, Tatsuya Shimoda,
    29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference,ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto, Japan,Nov. 8-11th, 2016
  • 5. 液体SiC材料を用いたp型SiC膜に関する研究,
    中島拓哉、村上達也、増田貴史、下田達也,
    応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会,富山県民会館,2016/12/10
  • 6. Si heterojunction solar cells with a-Si passivation films formed from liquid Si,
    Keisuke Ohdaira, Cheng Guo, Hideyuki Takagishi, Takashi Masuda, Zhongrong Shen, Tatsuya Shimoda,
    43rd IEEE PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE 2016,Portland Convention Center, Portland, OR,June 5-10, 2016
  • 7. 液体Siの液体固体変換過程とインプリント性に関する研究,
    長谷川泰史、山崎健、増田貴史、下田達也,
    応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会,富山県民会館,2016/12/10
  • 8. n型液体Siのダイレクトナノインプリント,
    八巻裕貴、山崎健、増田貴史、下田達也,
    応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会,富山県民会館,2016/12/10
  • 9. UV/O3加熱処理による溶液プロセスPb(Zr,Ti)O3膜の低温作製,田頭 裕己, ファンチョントゥエ, 志村 礼司郎, 佐藤 啓介, 深田 和宏, 李 金望, 下田 達也, 高村 禅,第76回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋国際会場),15p-2L-13, 2015.9/13-16,名古屋国際会場,2015.9/13-16
  • 10. Oxide Semiconductor/Polypropylene Carbonate Paste for a Thin-Film Transistor using Screen Printing, A. Matoba, K. Fukada, Y. Maeda, X. Y. Liu, K. Nishioka, N. Fujimoto, M. Suzuki, Y. Yonezawa, S. Takagi, S. Inoue, and T. Shimoda,SID Symposium Digest of Technical Papers, 1135-1138, (2015),San Jose,May 31st-June 5th
  • 11. Fabrication of an All-Screen Printed Oxide Semiconductor Thin Film Transistor Active-Matrix Backplane,K. Fukada, Y. Maeda, X. Y. Liu, A. Matoba, S. Takagi, S. Inoue, T. Shimoda,SID Symposium Digest of Technical Papers, 490-493 (2015),San Jose,May 31st-June 5th
  • 12. Evaluation of Air Stability of Solution-Processed Oxide Semiconductor Thin Films by Surface Plasmon Resonance Method,Kenta Kasamatsu, Koji Nagahara, Kazuhiro Fukada, Satoshi Inoue, Tatsuya Shimoda,5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015), P1-22.,Niigata,June 16-19
  • 13. 溶液プロセスにより作製したBi-Nb-O膜に発現する特異物性,井上 聡、有賀 智紀、松本 真、下田 達也,電気学会、誘電・絶縁材料研究会
  • 14. Development of a Patterning Method of Oxide Materials by UV Irradiation and Selective Removal Using Solvent,Yuuki Yoshimoto, Tatsuya Shimoda,5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015), P1-16, June 16-19 ,Niigata, Japan,Niigata, Japan,June 16-19, 2015
  • 15. シリコン@単分散球状メソポーラスカーボンの新規合成法,
    矢野 一久、龍田 成人、増田 貴史、下田 達也,
    第76回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2015/9/13-16
  • 16. 溶液法を用いたアモルファスシリコンカーバイド膜の研究,
    岩坂 明,増田 貴史,下田 達也,
    2015年度応用物理学会 北陸・信越支部 若手研究者サマーセミナー合宿研究会と研究討論会,長野 斑尾高原ホテル,2015/8/31-9/1
  • 17. Amorphous silicon nano pillars using silicon precursor solution by nanoimprint technology,
    Ken Yamazaki, Takashi Masuda, and Tatsuya Shimoda,
    The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015),Niigata, Japan,June 16-19, 2015
  • 18. Deterioration properties of a-Si films formed using liquid Si under air exposure,
    過 程, K. Ohdaira, H. Takagishi, T. Masuda, T. Shimoda,
    2015年第76回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場,2015/9/13-16
  • 19. シリコン前駆体溶液とナノインプリント法を用いたアモルファスSiピラーの作製,
    山崎 健, 増田 貴史, 下田 達也,
    2015年度応用物理学会 北陸・信越支部 若手研究者サマーセミナー合宿研究会と研究討論会,長野 斑尾高原ホテル,2015/8/31-9/1
  • 20. van der Waals 相互作用エネルギーが乾燥模様に及ぼす影響 供
    大森 豊治, 増田 貴史, 下田 達也, ,
    第62回応用物理学会春季学術講演会,東海大学,2015/3/11-14

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