徳光研究室 徳光研究室 徳光研究室

4月に本学へ入学された皆さんへ

 半導体デバイス用材料やトランジスタなどの半導体デバイスを実際に作ってみたいとは思いませんか。当研究室では酸化物半導体チャネルと強誘電体ゲート絶縁膜を用いた薄膜トランジスタを作製しています。これは不揮発性メモリ素子となる他、急峻なスイッチング、大きな電荷量制御が可能となるトランジスタです。興味のある方は研究室見学を受け付けますので、徳光までメール(e-toku)で連絡をお願いします。現在の研究内容・実験室・装置などを紹介します。
 当研究室では、HfO2系の強誘電体薄膜を溶液プロセスで作製しています。今までに、強誘電性を示す準安定の直方晶を形成するためには、結晶化時に酸素を供給「しない」方がよいことがわかってきました。酸化物薄膜を作製するのに、酸素を供給しないで焼成した方がよいのも不思議な感じがします。
 材料や電子デバイスに興味のある学生さんはぜひ気軽に研究室見学にいらしてください。

大学院進学を考えている学生さんへ

半導体デバイス、電子材料などに興味があって、大学院進学を考えている学生さん向けに、随時オンラインで研究室説明をします。現在の我々の研究内容・実験室・装置などを紹介します。興味のある方は徳光までメールで連絡をお願いします。
当研究室では、薄膜やデバイスを自分で作製し、物性解析や電気測定を行って、機能性材料をデバイスに応用する研究をしています。
トランジスタ作製や溶液プロセスによる薄膜形成など、ものづくりに興味のある学生の参加をお待ちしています。ぜひ気軽にメールください。

For those who are interested in our research, please contact Tokumitsu by e-mail. We will explain our recent research activities.
 

研究室説明

テーマ:機能性材料を用いた電子デバイスの高機能化・高性能化、および新デバイスの創成

デバイス:薄膜トランジスタ (TFT) ・強誘電体を用いた不揮発メモリ&ロジック素子 (強誘電体ゲートトランジスタ)
 材料 :酸化物半導体 ・強誘電体・高誘電率 (high-k) 材料 など
プロセス:溶液プロセス・ナノインプリント・真空成膜プロセス

本研究室は 2014 年に東京工業大学から異動してきました。「機能性材料を用いた電子デバイスの高機能化・高性能化、および新デバイスの創成」をテーマに、薄膜トランジスタや不揮発性メモリ素子などの研究を行っています。本研究室では、材料の物理的性質の理解・人工的物性制御といった材料研究から、トランジスタや電子回路を試作・測定して動作検証するデバイス研究、さらには省エネルギー・低環境負荷な溶液プロセスによる作製プロセスの研究も行っています。詳細はこちら

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