学生の島袋颯馬さん（博士前期課程2年、ナノマテリアル・デバイス研究領域、大平研究室）が第23回Cat-CVD研究会において優秀学生ポスター賞を受賞しました。

　第23回Cat-CVD研究会は、令和8年6月18日・19日に旧大連航路上屋（福岡県北九州市）で開催され、Cat-CVD技術を用いた薄膜やデバイスの作製をはじめ、基礎から応用まで幅広い分野における最新の研究成果について、活発な議論が行われました。
　優秀学生ポスター賞は、学部学生および大学院生を対象に、日々の研究活動を奨励することを目的として、同研究会において特に優れたポスター発表を行った学生に贈られる賞です。

※参考：Cat-CVD研究会

■受賞年月日
　令和8年6月19日

■研究題目、論文タイトル等
　レーザー補助FLAによるCat-CVD a-Si膜の結晶化の起点形成効果

■研究者、著者
　島袋颯馬、前田健作、大平圭介

■受賞対象となった研究の内容
　本研究では、非晶質シリコン膜の結晶化過程で生じる爆発的結晶化について、その発生起点を能動的に制御する手法を提案し、実験的に実証しました。爆発的結晶化は、多結晶シリコン膜を高速に形成できる技術として期待されていますが、結晶化が始まる位置を制御することが難しいという課題があります。本研究では、フラッシュランプアニールとパルスレーザー照射を組み合わせることで、任意の位置から爆発的結晶化を誘起することに成功しました。また、起点形成に必要なレーザーエネルギー密度が比較的低いことを明らかにしました。

■受賞にあたって一言
　このたびは、第23回Cat-CVD研究会において優秀学生ポスター賞を受賞することができ、大変光栄に思います。本研究は、Cat-CVD法で作製した非晶質シリコン膜の応用研究として取り組んできたものです。本研究会において、結晶成長の観点から研究成果を発表し、多くの方々に興味を持っていただけたことを大変うれしく思います。日頃よりご指導いただいている大平圭介教授、前田健作講師をはじめ、研究を支えてくださった研究室および研究スタッフの皆様に、心より感謝申し上げます。今回の受賞を励みとして、今後も研究活動に精進してまいります。

　

　

令和8年9月7日