北陸先端科学技術大学院大学
マテリアルサイエンス

　研究員のNguyen Cong Thanh さん（環境・エネルギー領域、大平研究室）が2019MATERIALS RESEARCH SOCIETY（MRS）Fall MeetingにおいてBest Oral Presentation Awardを受賞しました。
　MRSは、材料研究における基礎領域と応用領域の研究を発表、議論することを目的に開催される世界有数の国際会議で、今回、2019MRS Fall Meetingは2019年12月1日～6日にかけてアメリカ合衆国のボストンで開催されました。


■受賞年月日
　令和元年12月5日

■研究題目、論文タイトル等
Microparticle-Assisted Texturing (MPAT) Process on As-Cut Crystalline Silicon:Controllable Texture Size, Low Optical Reflectivity, Quick Formation, Extremely Low Material Loss andToward Mass-Production

■研究者、著者
Cong Thanh NGUYEN, Keisuke OHDAIRA, Hideki MATSUMURA

■受賞対象となった研究の内容
We presented a novel technique to form random textures on as-cut crystalline silicon (c-Si) used for sunlight trapping in solar cells, so-called microparticle-assisted texturing (MPAT) process, in which glass microparticles were mixed with conventional alkaline-based texturing chemical solutions. As a result, the texture size, etching duration, solution consumption, and c-Si etched loss were reduced by almost one order of magnitude. Consequently, the texturing cost should be reduced by the same order. Especially optical reflectivity (R) is ~ 7%, almost world-record for the random textures. The MPAT process was applicable to c-Si wafers with thickness down to 50 µm for low material cost. The superiorities were attributed to that the glass microparticles with certain kinetic energy can sweep out reaction-generated hydrogen bubbles from the c-Si surface to speed up the texture formation. In addition, we developed a suitable wet chemical cleaning prior to surface passivation using catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD) silicon nitride (SiNx)/amorphous silicon (a-Si) stacked layers. A world-record low surface recombination velocity (SRV) ~0.38 cm/s was achieved. Toward mass-production using the MPAT process, we fabricated an MPAT machine for etching of multiple full-size wafers with a pitch of 5 mm to obtain uniform textures with a yield almost 100%. The standard deviation of R is < 0.1% over all the wafers in the same batch. Therefore, the MPAT process is realistic in the mass-production of the low-cost and high-performance thin c-Si-based solar cells.

■受賞にあたっての一言
We are excited and honored to receive the award. We sincerely appreciate the attention that the materials research society (MRS) gives to our work. I appreciate my colleagues have done to help and encourage me in my professional growth, especially Prof. Matsumura and Prof. Ohdaira. I could not ask for more effective mentors who always encouraged me even when doing crazy ideas, like trying some materials bought from supermarkets, fabricating experimental tools, and very patient to wait for my very-long-time consideration before doing experiments, and so on. I deeply appreciate your trust in me!
I also would like to thank NEDO (New Energy and Industrial Technology Development Organization), Japan for their financial support.

令和2年1月10日

　学生の鈴木 友康さん（博士前期課程1年、環境・エネルギー領域・大平研究室）が、平成30年度応用物理学会北陸・信越支部学術講演会において発表奨励賞を受賞しました。

　「応用物理学会」は、半導体、光・量子エレクトロニクス、新素材など、それぞれの時代で工学と物理学の接点にある最先端課題、学際的なテーマに次々と取り組みながら活発な学術活動を続けています。またこの賞は、応用物理学会北陸・信越支部の学術講演会において、応用物理学の発展に貢献しうる優秀な一般講演論文を発表した若手会員に対し「北陸・信越支部発表奨励賞」を授与し、その功績を称えることを目的としています。

■受賞年月日
　平成30年12月1日

■講演題目
　「n型フロントエミッター型太陽電池モジュールの電圧誘起劣化におけるSiO₂膜の効果」

■講演概要
　近年、大規模太陽光発電所などで、太陽電池モジュールのアルミフレームとセル間の電位差に起因して性能が劣化する電圧誘起劣化(PID)が問題となっている。本研究では、今後の普及が期待される、基板にn型結晶Siを用い、光入射側にp型エミッター層があるn型フロントエミッター型(n-FE)結晶Si太陽電池モジュールに関し、セル中のSiO₂膜がPIDにおよぼす影響を、SiO₂膜がないn-FEセルを用いたモジュールへのPID試験との比較により検証した。SiO₂膜の無いモジュールでは、表面の窒化Si膜への正電荷蓄積に起因する初期の劣化が確認できなかったが、Na⁺侵入に起因するその後の劣化に関しては、劣化の程度が大きく、発現する時間も早まった。以上のことから、n-FEモジュールのSiO₂膜は、窒化Siに蓄積する正電荷のSi側への放出を抑止するため初期のPIDを引き起こす一方、Na⁺侵入によるPIDを遅延する効果があると考察した。

■受賞にあたって一言
　この度、応用物理学会北陸・信越支部学術講演会におきまして、発表奨励賞を頂けたことを大変光栄に思います。ご指導いただいた、産業技術総合研究所増田淳様、大平圭介教授、D3山口世力氏ならびに研究室のメンバーには厚く御礼申し上げます。また、今回の実験を行うに当たり、n-FEセルを作製いただいた、豊田工業大学の中村京太郎教授にも厚く御礼申し上げます。今後もこれを励みにし、研究に精一杯取り組んでいきたいと思います。

平成30年12月12日

研究員のNguyen Cong Thanhさん（平成24年9月博士後期課程修了、環境・エネルギー領域・大平研究室）の論文がCAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS刊行のJournal of Materials Research誌の表紙に採択されました。

■掲載誌
　Journal of Materials Research

■著者
　Cong Thanh Nguyen, Koichi Koyama, Huynh Thi Cam Tu, Keisuke Ohdaira, and Hideki Matsumura

■論文タイトル
　Texture size control by mixing glass microparticles with alkaline solution for crystalline silicon solar cells

■論文概要
　本論文は、結晶シリコン太陽電池の低光反射に必要なテクスチャー構造の新たな形成法、microparticle-assisted texturing (MPAT)法に関するものです。安価なガラス微粒子を従来のアルカリ溶液に混入するだけで、テクスチャを10 µm程度から0.3～2 µmにまで劇的に微細化できます。また、処理時間も25分から2分に短縮でき、処理による板厚低減も20 µmから2 µmに大幅に抑えられるため、厚み50 µm以下の薄板基板にも適用可能です。この手法で作製したテクスチャー基板上に触媒化学気相堆積(Cat-CVD)法で膜堆積を行うと、数ms以上の少数キャリア寿命と優れた反射防止特性が得られることも確認しました。

参考：https://doi.org/10.1557/jmr.2018.151

平成30年6月21日

　環境・エネルギー領域の大平圭介准教授のグループと、産業技術総合研究所太陽光発電研究センターの増田淳副研究センター長（兼本学客員教授）のグループとの共同研究の成果をまとめた講演が、27th Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-27)において、Best Paper Awardを受賞しました。

　PVSECは、アジア・太平洋地域で開催される太陽光発電に関する最大級の国際学会で、今回が27回目の開催です。各種太陽電池材料やデバイス、評価技術、信頼性、市場・政策など広範囲のトピックスを対象としており、今回は10のエリアに分かれて発表が行われました。Best Paper Awardは、総発表件数750件超の中から、全エリアを通して数件程度に授与されるものです。

■受賞年月日
　平成29年11月17日

■タイトル
　J_sc and V_oc reductions in silicon heterojunction photovoltaic modules by potential-induced degradation tests

■著者
　Keisuke Ohdaira (JAIST), Seira Yamaguchi (JAIST), Chizuko Yamamoto (AIST), and Atsushi Masuda (AIST)

■発表概要
　大規模太陽光発電所において、太陽電池モジュールのフレームと発電素子（セル）の間の電位差が原因で発電性能が低下する、電圧誘起劣化(potential-induced degradation: PID)の問題が顕在化しています。結晶シリコンと非晶質シリコンとのヘテロ接合からなるシリコンヘテロ接合(silicon heterojunction: SHJ)太陽電池は、高効率太陽電池としてすでに市販されており、大規模太陽光発電所への導入も進んでいますが、そのPID現象や発現機構は未解明でした。今回の研究では、SHJ太陽電池モジュールに対してPID試験を行い、1) 電流の低下に特徴づけられるPIDがまず発現すること、2) 透明導電膜の還元による光学損失がこの電流低下の原因であること、3) さらに長時間のPID試験を行うと電圧の低下も起こること、4) モジュールに用いる封止材を変更することでPIDを抑止できること、を明らかにしました。

■受賞にあたって一言
　太陽光発電分野の権威ある国際学会であるPVSECでのBest Paper Awardを受賞でき、大変光栄に感じております。実験データの多くが産業技術総合研究所で取得されたものであり、共著者の皆様にも感謝いたしております。今後も引き続き、SHJ太陽電池モジュールをはじめ、n型結晶Si太陽電池モジュールのPIDの現象解明と抑止技術開発に、精力的に取り組んでいきたいと思います。本研究は国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の委託により行っているものであり、関係各位に感謝いたします。

平成29年11月22日